就
是
對(duì)
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個(gè)產(chǎn)品，
對(duì)待每一
做到極致認(rèn)真
每一個(gè)零件
細(xì)
致
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級(jí)無(wú)塵烘箱
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氮?dú)夂嫦?，精密充氮烘?/div>LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮?dú)夂嫦?/div>熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱（PI烤箱）真空無(wú)氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱精密烤膠臺(tái)，高精度烘膠機(jī)超低溫試驗(yàn)箱，零下-120度高低溫箱
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等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)
發(fā)布時(shí)間: 2021-09-26 13:42
離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)簡(jiǎn)介
等離子去膠機(jī)的真空腔采用石英管結(jié)構(gòu)，適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡(jiǎn)單、可靠、徹底、速率快、成品率高、處 理后無(wú)酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。等離子表面處理機(jī)采用國(guó)內(nèi)最優(yōu)射頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國(guó)家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀(guān)大方，操作簡(jiǎn)便。
等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)主要配置及技術(shù)指標(biāo)：
l、電源：?jiǎn)蜗?20V 50Hz，2KW
2、射頻源：國(guó)產(chǎn)， f=13.56MHz 50～500W連續(xù)可調(diào)，全自動(dòng)匹配
3、氣體控制：氧氣和氮?dú)鈿鈨陕?，美?guó)進(jìn)口浮子流量計(jì)控制
4、真空獲得方式：2L機(jī)械泵
5、真空度：優(yōu)于-100KPa
6、氣體流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、產(chǎn)能：每次20片（2"-4"）
9、觸摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自動(dòng)/手動(dòng)，自動(dòng)模式下可實(shí)現(xiàn)一鍵完成整個(gè)工藝過(guò)程
l1、整機(jī)采用松下plc和觸摸屏控制
12、反射自動(dòng)匹配
a、最大負(fù)荷電流：10ARMS
b、最大負(fù)荷電壓：200VRMS
c、傳輸效率：>90％
d、匹配時(shí)間：3～5s
e、可匹配阻抗實(shí)部范圍：1～500Ω
f、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
g、主電容：空氣電容
等離子去膠機(jī)的真空腔采用石英管結(jié)構(gòu)，適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡(jiǎn)單、可靠、徹底、速率快、成品率高、處 理后無(wú)酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。等離子表面處理機(jī)采用國(guó)內(nèi)最優(yōu)射頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國(guó)家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀(guān)大方，操作簡(jiǎn)便。
等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)主要配置及技術(shù)指標(biāo)：
l、電源：?jiǎn)蜗?20V 50Hz，2KW
2、射頻源：國(guó)產(chǎn)， f=13.56MHz 50～500W連續(xù)可調(diào)，全自動(dòng)匹配
3、氣體控制：氧氣和氮?dú)鈿鈨陕?，美?guó)進(jìn)口浮子流量計(jì)控制
4、真空獲得方式：2L機(jī)械泵
5、真空度：優(yōu)于-100KPa
6、氣體流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、產(chǎn)能：每次20片（2"-4"）
9、觸摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自動(dòng)/手動(dòng)，自動(dòng)模式下可實(shí)現(xiàn)一鍵完成整個(gè)工藝過(guò)程
l1、整機(jī)采用松下plc和觸摸屏控制
12、反射自動(dòng)匹配
a、最大負(fù)荷電流：10ARMS
b、最大負(fù)荷電壓：200VRMS
c、傳輸效率：>90％
d、匹配時(shí)間：3～5s
e、可匹配阻抗實(shí)部范圍：1～500Ω
f、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
g、主電容：空氣電容
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