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對(duì)

態(tài)

,


個(gè)產(chǎn)品,

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)

每一組數(shù)據(jù)

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SiC MOS 在有源功率因數(shù)校正電路的優(yōu)勢
來源: | 作者:雋思半導(dǎo)體設(shè)備部 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-01-02 | 776 次瀏覽 | 分享到:

      在電力電子技術(shù)的發(fā)展中,硅功率器件的使用已經(jīng)發(fā)揮到了極致。第三代功率半導(dǎo)體器件SiC(HMDS烘箱)的出現(xiàn),為電力電子技術(shù)的行業(yè)發(fā)展提供了廣闊的前景,不管是器件制造行業(yè),還是電力電子裝置行業(yè),都有了光明的前途。目前,開關(guān)電源都朝著高效和高頻化方向發(fā)展,從而造成了開關(guān)損耗增加、電源效率降低以及電磁感染嚴(yán)重等問題。針對(duì)這些問題,采用SiC MOS代替?zhèn)鹘y(tǒng)的Si MOS,可實(shí)現(xiàn)極高的開關(guān)速度,高開關(guān)頻率和低開關(guān)損耗,同時(shí)采用有源功率因數(shù)校正的方法來提高開關(guān)電源的利用率。

    為了提高開關(guān)電源的工作頻率,降低開關(guān)損耗,減少電磁污染等,采用第三代半導(dǎo)體(HMDS烘箱)功率器件SiC MOS代替?zhèn)鹘y(tǒng)的Si MOS,同時(shí)采用有源功率因數(shù)校正技術(shù)來提高開關(guān)電源的利用率。該文分析了整個(gè)電路的工作原理,利用Matlab仿真軟件對(duì)電路進(jìn)行了仿真。仿真結(jié)果表明,在開關(guān)電源中使用SiC MOS可以提高開關(guān)頻率,降低開關(guān)損耗,提高電源的利用率。功率因數(shù)可達(dá)0.998以上,負(fù)載上輸出的直流電壓穩(wěn)定,紋波電壓誤差小。

SiC MOSHMDS烘箱

溫度范圍:RT+10-200℃

真空度:≤1torr

操作界面:人機(jī)界面

工藝編輯:可儲(chǔ)存5個(gè)配方

氣體:N2進(jìn)氣閥,自動(dòng)控制

容積:定制

產(chǎn)品兼容性:2~12寸晶圓及碎片、方片等

  HMDS烘箱適用行業(yè):MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。



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